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PACVD技术

Nov 10, 2016


PACVD是等离子体辅助化学气相沉积的缩写。


什么是PACVD技术?


PACVD是等离子体辅助化学气相沉积的缩写。 有时写PECVD,E代表增强的含义。 在PVD工艺中,涂料从固体蒸发形式获得; 而在PACVD工艺中,从气体形式获得涂层。 气体,如等离子体中的HMDSO(六甲基二甲硅烷基醚),裂解发生在约200℃。非反应性气体如氩气可以沉积在工件的表面上并形成薄的涂层。 类金刚石(DLC)涂层是PACVD技术的一个很好的例子,它通常用于摩擦学和汽车工业领域。