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Industry

溅射目标

Jun 25, 2016

目标涂层采用磁控溅射和多弧离子电镀或其他类型的涂层体系


在由各种功能性薄膜形成的基板上的溅射的适当技术条件


溅射源。 简单地说,目标是对使用的目标材料进行粒子轰击的高负载


高能激光武器,不同功率密度,不同输出波形和不同波长的激光器具有不同的目标相互作用,会产生破坏和损伤的影响。 例如:

蒸发磁控溅射涂层是加热蒸发涂层,铝膜等


更换不同的目标材料(如铝,铜,不锈钢,钛,镍等)


和其他目标),您可以获得不同的膜系统(如超硬,耐磨,


腐蚀合金膜)。


折叠金属靶


目标镧目标靶氧化锆氧化锆目标目标靶标目标


ITO靶,氧化镁,氧化铁,氮化硅,碳化硅,氮化物,铬


氧化物靶,氧化锌靶,ZnS靶,二氧化硅靶,氧化硅靶,氧化铈


目标和第二个目标,五个氧化物目标铌,二氧化钛目标和第二个目标


目标,氧化铪靶,二硼化钛靶,硼锆靶,钨靶3

氧化2铝五氧化二钽(Ta2O5),五氧化铌靶,MgF2靶,


钇氟化物靶,ZnSe靶,氮化铝靶,氮化硅靶,硼


氮化物靶,氮化钛,碳化硅,铌酸锂靶和Ti靶,


钛酸钡靶, 钛酸盐靶 ,氧化镍靶,溅射靶。


折合金靶


铁钴靶FeCo,铝硅靶AlSi,钛硅靶TiSi,铬

硅靶CRSI,锌铝靶ZnAl,钛锌靶TiZn, 钛铝

目标TiAl 钛锆靶 TiZr,钛硅靶TiSi, 钛镍靶

TiNi,Ni Cr NiCr靶,镍铝靶NiAl,镍和钒靶NIV,镍

铁靶NiFe等